IJPEM
Inlet hole shape analysis depending on the focusing conditions for the electron beam microhole drilling
120kV급 고출력 전자빔을 활용한 미세 홀 공정기술에 대한 연구
강은구/한국생산기술연구원
- 120kV급 고출력 전자빔을 활용한 미세 홀 가공 시 빔 집속 조건이 가공 홀의 형상에 미치는 영향에 대하여 분석
- Space charging과 같은 전자빔 고유의 특성을 반영하여, 전자빔 집속조건에 따른 빔 입사 형태를 제시
- 빔 입사형태에 따라 나타나는 가공경향성을 실험적으로 분석하여, 전자빔 미세 홀 가공 시 burr를 적게 형성하는 집속조건 제시
- 몬테카를로 기반 시뮬레이션 툴을 활용하여, 빔 집속조건/입사형태 변화에 따른 burr형성 차이가 후방산란 전자에서 비롯되었을 가능성을 제시
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